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IMEC将光刻技术利用于OLED产品的造作 ,或将取缔精密金属研磨(FMM)的使用

颁布功夫:2021-01-01 |阅读次数:3967

          CINNO Research产业资讯 ,在2020年国际显示钻研会上 ,IMEC展示了一种使用光刻技术造作OLED显示层中有机半导体和阴极图案的技术。这种规划造作出的产品拥有突破性的靠得住性。显然 ,这种规划有机遇取缔精密金属掩模板(FMM)的使用。


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该样品的展示对显示器造作商很有吸引力 ,终于光刻技术能够实现更高的分辨率 ,另表还可能增长阴极的通明度 ,这些都有助于在显示器内集成其他传感器。IMEC极度愿意就此主题与行业合作同伴进行合作 ,另表还能够提供与此有关的定造设计服务。

在移动显示器领域 ,消费者对提高屏占比的需要一向在促使造作商设计新的表形尺寸 ,并在屏幕内部暗藏越来越多的职能(例如前置摄像头、指纹传感器等)。当然无论是消费者还是面板造作商都不仅愿在增长这些职能的同时就义图像显示质量。

同样 ,在高端智能手机 ,电视和幼我推算机/笔记本电脑蹬爪用中 ,造作商也非0屯呕踔猎龀び性淳卣驩LED(AMOLED)屏幕的个性 ,例如更丰硕的色彩、更为超薄甚至能够折叠的表形 ,这些都是他们关于将来产品设计的进展。

反观现实 ,目前的AMOLED产品(出格是幼尺寸产品)造作宽泛使用精密金属掩模板(FMM)技术来沉积红色 ,绿色和蓝色发光层(EML)图案。另表 ,市场上也有多家公司已经证明 ,通过印刷解决规划(例如喷墨印刷(IJP))造作出的AMOLED显示器 ,其分辨率也仅超过150ppi。

现实上 ,FMM的使用不合用于大面积玻璃基板。另一方面 ,与蒸发工艺造作的OLED面板相比 ,IJP工艺造作出的产品更是会降低产品的靠得住性。

在此布景下 ,通过光刻工艺的使用 ,IMEC此刻提供了另一种造作路线 ,该路线可带来更高的设计自由度 ,另表 ,它在产品靠得住性方面也展示出令人鼓励的了局。

例如 ,IMEC可能在有机半导体的顶部以1μm的间距(线宽和间距)进行像素的图案化 ,这一参数造作出的产品理论上能够达到约莫12000ppi的分辨率。另表 ,在使用这种技术对OLED的阴极进行图案化之后 ,OLED前面板在较长波长下的透过率从20%增长到70%。更为沉要的是 ,靠得住性测试的了局批注 ,与通常未使用该技术进行图案化的OLED相比 ,这种使用新规划对阴极进行图案化的OLED ,其T95寿命超过200幼时 ,并且在1000尼特时 ,OLED寿命没有可丈量的差距。

“由于光刻技术与OLED资料之间在化学层面上的不相容性 ,传统意思上使用光刻工艺造作OLED器件极度拥有挑战性 ,”传感器技术研发项目掌管人Tung Huei Ke说 ,“此表 ,在传统的光刻环境中 ,OLED资料对水和氧气的敏感性也是一个很大的问题。”

“首先 ,OLED的子像素必要进行至少3次光刻能力实现全色AMOLED阵列的造作 ,所以各人都以为在屡次光刻工艺之后 ,上述布景下的问题会不休累积 ,”Ke补充说 ,“我们起初的尝试也证实了这一如果 ,这一了局让我们想烧毁选择这条路线。不外 ,在使用光刻工艺进行屡次图案化步骤后 ,IMEC此刻可能造作出拥有杰出靠得住性的OLED产品。这是将光刻工艺用于OLED图案化过程的沉要里程碑。”

起源: CINNO Research


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